陰極濺射法 的英文怎麼說
中文拼音 [yīnjíjiànshèfǎ]
陰極濺射法
英文
cathode sputtering process- 陰 : Ⅰ名詞1 （中國古代哲學認為宇宙中通貫物質和人事的兩大對立面之一） （in chinese philosophy medicine ...
- 極 : i 名詞1 （頂點; 盡頭） the utmost point; extreme 2 （地球的南北兩端; 磁體的兩端; 電源或電器上電流...
- 濺 : 動詞（液體受沖擊向四外射出） splash; spatter
- 射 : Ⅰ動詞1 （用推力或彈力送出） shoot; fire 2 （液體受到壓力迅速擠出） discharge in a jet 3 （放出） ...
- 法 : Ⅰ名詞1 （由國家制定或認可的行為規則的總稱） law 2 （方法; 方式） way; method; mode; means 3 （標...
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It was found that the thin films and target were of similar composition. the optimal deposition temperature was 150 - 200 and the tcr of thin films were strongly influenced by the target temperature
發現磁控濺射法可以沉積得到與靶材組分一致的錳銅薄膜，沉積的最佳溫度為150 200 』 c ，並且陰極靶的溫度對薄膜tcr有很大的影響。
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