電子波束技術 的英文怎麼說

中文拼音 [diànzibōshùjìshù]
電子波束技術 英文
electron beam technology
  • 電 : Ⅰ名詞1 （有電荷存在和電荷變化的現象） electricity 2 （電報） telegram; cable Ⅱ動詞1 （觸電） give...
  • 子 : 子Ⅰ名詞1 （兒子） son 2 （人的通稱） person 3 （古代特指有學問的男人） ancient title of respect f...
  • 波 : Ⅰ名詞1 （波浪） wave 2 [物理學] （振動傳播的過程） wave 3 （意外變化） an unexpected turn of even...
  • 束 : Ⅰ動詞1 （捆; 系） bind; tie 2 （控制; 約束）control; restrain Ⅱ量詞（用於捆在一起的東西） bundle;...
  • 技 : 名詞（技能; 本領） skill; ability; trick; technique
  • 術 : 術名詞1. （技藝; 技術; 學術） art; skill; technique 2. （方法; 策略） method; tactics 3. （姓氏） a surname
  • 電子 : [物理學] [電學] electron
  • 波束 : wave beam; beam; wave packet波束空間 [半] wave number space
  1. The basic principle, main properties, typical parameters, technical characteristics and general situation of klystron are introduced. the electron beam prebunching in the modulated cavity and shift tube of relativistic klystron amplifer ( rka ) is studied analytically, a self - consistent equation of radiation generated by the prebunched electron beam in the radiation cavity is derived using the field method of particle ? wave interaction instead of the electrical circuit method, and in terms of it, the gain in the linear regime calculated, a field analysis method is proposed. the theory analysis shows that the characteristic parameters, such as resonance frequency, real part of gap - impedance, external quality fadtor in all kinds of klystron output circuits including single - beam, multi - beam, single - gap, multi - gap, single - beammulti - gap, multi - beam multi - gap klystron output circuit, can be calculated by the field analysis method

    本文系統的介紹了速調管的工作原理、主要特點、發展概況、主要性能指標和技術特點，解析的研究了電子束在相對論速調管放大器的調制腔和漂移管中的預群聚;用粒子波互作用的場方法導出了在輻射腔中預群聚電子束產生輻射的自洽方程，同時對線性區的增益進行了計算。理論分析表明，場分析法可用於計算單注單間隙、多注多間隙、單注多間隙和多注多間隙速調管輸出迴路的諧振頻率、間隙阻抗實部和外觀品質因數等特性參數。
  2. With the development of thin film science and technology, various thin film preparation techniques developed rapidly, as a result, conventional so - called filming has developed from single vacuum evaporation to many new film preparation techniques, such as ion plating, sputtering, laser deposition, cvd, pecvd, mocvd, mbe, liquid growth, microwave and mtwecr, etc., of which vacuum evaporation is the common technology for thin film preparation, because it has the distinct advantage of high quality of film deposition, good control - ability of deposition rate and high versatility

    隨著薄膜科學與技術的發展，各種薄膜制備方法得到了迅速發展，傳統的所謂鍍膜，已從單一的真空蒸發發展到包括蒸鍍、離子鍍、濺射鍍膜、化學氣相沉積（ cvd ） 、 pecvd 、 mocvd 、分子束外延（ mbe ） 、液相生長、微波法及微波電子共旋（ mwecr ）等在內的成膜技術。其中電子束蒸發技術是一種常用的薄膜制備技術，它具有成膜質量高，速率可控性好，通用性強等優點。
  3. Millimeter wave single pole multiple throw switch is one of the most important device in multi - channel system, widely applied to multi - beam radar, phase array radar system, electronic warfare system, and so on

    毫米波單刀多擲開關是毫米波多通道轉換的重要部件，廣泛應用於多波束雷達、相控陣雷達、電子對抗技術等方面。
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