脫光蝕刻 的英文怎麼說
中文拼音 [tuōguāngshíkè]
脫光蝕刻
英文
photolithography-
Rf plasma system 9200 is a barrel - type batch stripping system with optional high temperature capabilities for photoresist removal, nitride etch, and other cleaning applications in semiconductor and mems fabs
射頻等離子體9200是桶式爐脫模體,擁有可控制的高溫系統可去除光阻材料、氮化物蝕刻和半導體與微型機電系統等方面的清洗功能
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