離子束蝕刻機 的英文怎麼說

中文拼音 [lízishùshíkèjī]
離子束蝕刻機 英文
ion beam etcher
  • 離 : Ⅰ動詞1 （離開） leave; part from; be away from; separate 2 （背離） go against 3 （缺少） dispens...
  • 子 : 子Ⅰ名詞1 （兒子） son 2 （人的通稱） person 3 （古代特指有學問的男人） ancient title of respect f...
  • 束 : Ⅰ動詞1 （捆; 系） bind; tie 2 （控制; 約束）control; restrain Ⅱ量詞（用於捆在一起的東西） bundle;...
  • 蝕 : Ⅰ動詞1. （損失; 虧耗） lose 2. （腐蝕） erode; corrode Ⅱ名詞（天體現象） eclipse
  • 機 : machineengine
  • 離子 : [物理學] ion
  • 蝕刻 : [電學] [冶金學] etch; etching
  1. Generic specification of ion beam etching system

    離子束蝕刻機通用技術條件
  2. The theory of ion - beam etching and ion sources are reviewed. the classification of ion - beam etching are introduced. according to the mechanism that ion sputtering leads to faceting, trenching, reflection and redeposition, some relative solutions are put forward

    綜合敘述了離子束刻蝕技術和離子源的工作原理，簡單介紹了離子束刻蝕的分類，闡述了離子束刻蝕的物理濺射效應導致的刻面，開槽，再沉積等現象的產生機理及解決辦法，分析了kaufman離子源進行ribe的可行性及出現的問題。
  3. We give some useful analyses and the computer simulations for the ion etching process. compared with the atomic force microscope ( afm ) scanning photograph of the etching surface, the theoretical results prove that these simulation analyses assure the precision required by this problem, so these mathematical models are reasonable and correct. the analysis method in this paper is useful to analyze etching process, and it can also afford some valuable reference to etching technology

    在本論文我們主要利用這個數學模型，對使用離子束刻蝕製作單臺階光柵的臺階與溝槽部分的表面面形隨時間的演變過程分別進行了計算機模擬分析，並通過把理論結果與在實驗中得到的刻蝕表面在原子力顯微鏡（ afm ）下拍攝的照片進行比較，結果說明這種模擬分析能夠保證對該問題分析所要求的精度，從而也證明了理論模型的合理性和正確性。
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