高溫中子衍射 的英文怎麼說

中文拼音 [gāowēnzhōngziyǎnshè]
高溫中子衍射 英文
high temperature neutron diffraction
  • 高 : Ⅰ形容詞1 （從下向上距離大; 離地面遠） tall; high 2 （在一般標準或平均程度之上; 等級在上的） above...
  • 溫 : Ⅰ形容詞（不冷不熱） warm; lukewarm; hot; gentle; mild Ⅱ名詞1 （溫度） temperature 2 （瘟） acute ...
  • 子 : 子Ⅰ名詞1 （兒子） son 2 （人的通稱） person 3 （古代特指有學問的男人） ancient title of respect f...
  • 衍 : [書面語]Ⅰ動詞（開展; 發揮） spread out; develop; amplifyⅡ形容詞（多餘） redundant; superfluousⅢ名...
  • 射 : Ⅰ動詞1 （用推力或彈力送出） shoot; fire 2 （液體受到壓力迅速擠出） discharge in a jet 3 （放出） ...
  • 高溫 : high temperature; elevated temperature; hyperthermia; megatemperature; inferno
  1. The melted tungsten carbide would react with the steel matrix on the interface and the reaction zone was observed as a result. the reacting production was examined as fe3w3c by means of x - ray diffraction and scanning electron microscopy analysis. the reaction between tungsten particle and steel matrix could improve the interfacial bonding strength remarkably

    Wc鋼復合材料的制備過程中， wc顆粒在高溫下發生了局部溶解並在wc顆粒和鋼基體界面處發生了界面反應； x射線衍射和電子衍射花樣分析表明，反應產物為高穩定性的fe _ 3w _ 3c ，界面反應有效地改善了wc顆粒與鋼基體的界面結合。
  2. Current researches, applications, preparation and structure of si3n4 are summarized in this paper. a new conclusion is drawn that silicon wafer can react with nitrogen at the temperature higher than 1100 and in super - pure nitrogen by direct - nitridation of silicon at the temperature from 800 to 1200. the prepared silicon nitride samples are tested by xps ( x - ray photoelectron spectroscopy ), sem ( scanning electron microscopy ), optical microscopy, xrd ( x - ray diffraction ) and edx ( energy dispersive x - ray analysis )

    通過矽片在800到1200各個溫度和各種氮氣氣氛下的氮化處理的實驗結果，報道了不同與其他研究者的氮化條件，矽片在氮氣保護的熱處理中的氮化條件為：高於1100的溫度和高純氮的氣氛條件，同時對該氮化硅薄膜進行了金相顯微鏡、掃描電鏡（ sem ） 、 x射線衍射儀（ xrd ） 、 x射線光電子譜（ xps ） 、 x射線能譜儀（ edx ）和抗氧化性等測試和分析。
  3. This part emphasizes the synthesis of nanoarrays, aiming at controlling the size and distance of nanocrystallites using calixarene derivatives by altering the size, length and chemical structure of the organic molecules ; 2. this part emphasizes in situ synthesis strategy for fabrication of polymer network of zns based nanopowder, aiming at size controls, coating and preventing agglomeration following " one - pot " synthesis ; this method fits to low cost, large scale production ; 3. according to development in zno nanomaterials, we first report on the synthesis, characterization of amorphous zno, aiming at describing the principles and approaches of synthesis techniques, optical properties, spatial structure and doped effect ; the amorphous zno displays cage - like structure, showing a strong ultraviolet emission while the visible emission is nearly fully quenched, a potential uv - emission material ; 4

    本論文以量子結構自組裝為出發點，提出利用杯芳烴及其衍生物的化學受限反應實現尺寸可調半導體納米粒子自組裝；提出有機聚合網路原位組裝zns基納米熒光粉方法，把熒光粉的納米化、包敷、防團聚在「一鍋」反應中完成，適于低成本，批量生產；根據當前zno的研究情況，我們首次合成了非晶zno ，研究了它的光學性質，確定了它的結構，並對其摻雜進行了初步的研究，非晶zno表現出強的深紫外發光特性，而可見發射非常弱，是一種有巨大潛在應用價值的深紫外發光材料；利用非晶zno的亞穩特性，對晶化過程中非晶zno納米晶zno三維受限量子結構特性，界面特性進行了深入的研究；利用固相熱分解一般受擴散控制特性，實現了尺寸可控的zno三維量子結構的自組裝；利用非晶zno的高度分散性，容易均勻成膜特性，實現了非晶籽晶誘導低溫液相外延自組裝生長高取向zno晶體薄膜。
  4. The relationship between sputtering conditions and the depositional speed shows : with working pressure 1. 2 pa, sputtering power 180w, the depositional speed of tio2 thin film is 40nm / h, and increases with the increasing of sputtering power. it can be also founded that the depositional speed is nearly proportional to the working pressure : within the range of 0. 3pa to 1. 6pa, the depositional speed increases linearly with the increase of ar pressure. with the enhancement of the substrate ' s temperature of sputtering or annealing, the resulted thin films show a tendency of decreasing in thickness, and increasing in refractivity

    本實驗是採用磁控濺射方法，在不同的溫度下制備了tio _ 2薄膜，並對薄膜進行了不同溫度和時間的退火處理，通過原子力顯微鏡（ afm ） 、 x射線衍射（ xrd ） 、掃描電鏡（ sem ）等檢測手段對薄膜的表面形貌和組成結構進行了分析，結果如下： （ 1 ）濺射工藝條件與薄膜沉積速度的關系表明：採用1 . 2pa工作氣壓， 180w的射頻功率tio _ 2薄膜的沉積速率為40nm h ，並隨射頻功率的增加而提高，呈近似的線性關系，在0 . 3pa 1 . 6pa氣壓范圍中，氬氣壓強升高沉積速率迅速增加，濺射溫度提高和退火處理能使薄膜的厚度減小和折射率提高。
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