reactive sputtering system 中文意思是什麼
reactive sputtering system
解釋
反應性濺鍍系統- reactive : adj. 1. 反動的，倒退的，復古的。2. 反應的；反作用的；反沖的；【電學】電抗的；【化學】反應性的，活性的。reactivity n. adv. -ly ,-ness n.
- sputtering : 飛濺
- system : n 1 體系，系統；分類法；組織；設備，裝置。2 方式；方法；作業方法。3 制度；主義。4 次序，規律。5 ...
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Zno thin films were deposited on silicon ( si ) and glass substrate by reactive radio frequency sputtering ( rf ) technique with zinc target in the mixed gas of ar ando2, and used zno buffer improving the quality of zno thin film. the effects of parameters on the thickness, composition, texture, morphology, optical properties and electrical properties of zno thin films had been systematically investigated by means of xrd, xps, sem, afm, pl and hall test system
採用x射線衍射（ xrd ） 、 x射線光電子能譜（ xps ） 、掃描電子顯微鏡（ sem ） 、原子力顯微鏡（ afm ） ，光致發光譜（ pl ）和霍爾效應測試技術系統研究了濺射工藝和退火工藝對zno薄膜的厚度、成分、織構、表面形貌、光學性能和電學性能的影響規律。 -
Reactive sputtering system
反應性濺鍍系統
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