vacuum chemical vapor deposition 中文意思是什麼

vacuum chemical vapor deposition 解釋
真空化學汽相淀積
  • vacuum : n （pl vacuums vac ua ）1 真空；空處，空虛，空白。2 〈美口〉吸塵器（＝ vacuum cleaner）。vi vt 〈...
  • chemical : adj 化學的，化學作用的；應用化學的，用化學方法獲得的。n 〈常 pl 〉化學製品；藥品。 fine chemicals...
  • vapor : n. 〈美國〉＝ vapour.
  • deposition : n. 1. 免職，罷免；廢位。2. 淤積[沉積]（物，作用）。3. 耶穌從十字架上放下（的畫、雕刻）。4. 寄存，委託；委託物。5. 【法律】口供，證言；口供書。
  1. A ) si thin film with sub - micro thickness was epitaxial grown on heavy - doped si substrate by ultra high vacuum chemical vapor deposition ( uhv - cvd )

    A ）利用超高真空化學氣相沉積（ uhv - cvd ）技術在重摻si襯底上生長高晶體質量的亞微米級薄硅外延片。
  2. By the design of microwave electric field mode and microwave mode converter ( mmc ), the thesis participated in equipping an domestic microwave plasma chemical vapor deposition ( mpcvd ) equipment with a quartz glass window and water - cooled stainless steel resonant chamber in 2450mhz / 5 kw, introduced the basic machineries and functions of the sub - systems, including microwave system, gas - route system, vacuum system, detecting system and safeguard system

    論文通過微波場型和模式轉換器的設計，參與建立了一套2 . 45ghz 5kw帶有石英玻璃窗、水冷卻不銹鋼諧振腔的微波等離子體化學氣相沉積（ mpcvd ）系統（ mpcvd - 4型） 。論述了包括微波系統、氣路系統、真空系統、檢測系統和保障系統等結構的組成及基本功能。
  3. Vacuum chemical vapor deposition

    真空化學汽相淀積
  4. Sige simox ; 3. sige smart - cut and behavior of sige / si he terostructure implanted with hydrogen. sige film preparation : sige films were grown on silicon substrate using solid source molecular beam epitaxy ( ssmbe ), gas - solid source molecular beam epitaxy ( gsmbe ) and ultra high vacuum chemical vapor deposition ( uhvcvd ) technologies

    Sige薄膜生長方面：在熟悉各種薄膜外延技術的基礎上，採用了近年來發展較為成熟的固態源分子束外延（ ssmbe ） 、氣-固態源分子束外延（ gsmbe ） 、超高真空化學氣相淀積（ uhvcvd ）三種sige薄膜外延技術，在硅（ 100 ）襯底上外延生長了sige薄膜。
  5. Many processes are used to prepare transparent conductive films, such as magnetron sputtering, vacuum reactive evaporation, chemical vapor depositions, sol - gel, laser - pulsed deposition

    多種工藝可以用來制備透明導電薄膜，如磁控濺射真空反應蒸發、化學氣相沉積、溶膠-凝膠法以及脈沖激光沉積等。
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