空穴電流密度 的英文怎麼說
中文拼音 [kōngxuédiànliúmìdù]
空穴電流密度
英文
hole current density- 空 : 空Ⅰ形容詞（不包含什麼; 裏面沒有東西或沒有內容; 不切實際的） empty; hollow; void Ⅱ名詞1 （天空） s...
- 穴 : 名詞1 （巖洞; 窟窿） cave; cavern; grotto 2 （動物的窩） den; hole 3 （墓穴） grave4 [中醫] （穴...
- 電 : Ⅰ名詞1 （有電荷存在和電荷變化的現象） electricity 2 （電報） telegram; cable Ⅱ動詞1 （觸電） give...
- 流 : Ⅰ動1 （液體移動; 流動） flow 2 （移動不定） drift; move; wander 3 （流傳; 傳播） spread 4 （向壞...
- 密 : Ⅰ名詞1 （秘密） secret 2 [紡織] （密度） density 3 （姓氏） a surname Ⅱ形容詞1 （距離近; 空隙小）...
- 度 : 度動詞[書面語] （推測; 估計） surmise; estimate
- 空穴 : [電子學] hole; electron hole; cavity; positive hole
- 電流 : current; galvanic current; electric current; electricity; current flow電流保護裝置 current protec...
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Based on the hydrodynamics energy transport model, the degradation induced by donor interface state is analyzed for deep - sub - micron grooved - gate and conventional planar pmosfet with different channel doping density. the simulation results indicate that the degradation induced by the same interface state density in grooved - gate pmosfet is larger than that in planar pmosfet, and for both devices of different structure, the impact of n type accepted interface state on device performance is far larger than that of p type. it also manifests that the degradation is different for the device with different channel doping density. the shift of drain current induced by same interface states density increases with the increase of channel do - ping density
基於流體動力學能量輸運模型，對溝道雜質濃度不同的深亞微米槽柵和平面pmosfet中施主型界面態引起的器件特性的退化進行了研究.研究結果表明同樣濃度的界面態密度在槽柵器件中引起的器件特性的漂移遠大於平面器件，且電子施主界面態密度對器件特性的影響遠大於空穴界面態.特別是溝道雜質濃度不同，界面態引起的器件特性的退化不同.溝道摻雜濃度提高，同樣的界面態密度造成的漏極特性漂移增大
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