atomic layer deposition 中文意思是什麼

atomic layer deposition 解釋
原子層沉積
  • atomic : adj. 1. 原子的。2. 極微的。3. 強大的。
  • layer : n 1 放置者，鋪設者，計劃者。2 【賽馬】（一般）賭客。3 產卵的雞。4 【軍事】瞄準手。5 層；階層；地...
  • deposition : n. 1. 免職，罷免；廢位。2. 淤積[沉積]（物，作用）。3. 耶穌從十字架上放下（的畫、雕刻）。4. 寄存，委託；委託物。5. 【法律】口供，證言；口供書。
  1. Atomic layer deposition ( ald ) has attracted a lot of attention recently for its excellent deposition abilities, such as almost 100 % step coverage, accurate thickness control, large area uniformity, excellent process stability, and low processing temperatures

    摘要最近原子層沉積（ ald ）吸引著許多的注意，原因在於它傑出的沉積技術能力，例如幾乎100 %的階梯覆蓋、精準的薄膜厚度控制、大面積薄膜的均勻性、優異的製程穩定度與低溫的製程。
  2. Development in atomic layer deposition and its applications

    原子層沉積技術及應用發展概況
  3. In order to otain high quality zno thin films, we, for the first time, employ the plasma enhanced chemical vapor deposition ( pecvd ) to prepare high quality zno thin film at low temperature using a zinc organic source ( zn ( c2h5 ) 2 ) and carbon dioxide ( co2 ) gas mixtures. the effects of the growing condiction and the native oxide layer of si substrate on the quality of zno thin films was studied in detail. to prepare p - zno and overcome the dufficulty of reverse due to the interaction between the n atomic, we obtain high qulaity p - zno by a easy way of thermal zn3n2

    為了在低溫下制備高質量的氧化鋅薄膜，我們採用金屬有機源和二氧化碳氣源，首次利用等離子體增強化學氣相沉積的技術在低溫下制備了高質量的氧化鋅薄膜，系統地研究了生長條件以及襯底表面氧化層對薄膜質量的影響，確定了生長高質量氧化鋅薄膜的優化條件；為獲得p - zno材料，克服在zno中摻n雜質間相互作用影響摻雜效率不易獲得p - zno的困難，我們通過熱氧化zn3n2的方法制備了p - zno ，獲得了一系列研究結果： 1 、詳細研究了氣體流速比，襯底溫度和射頻功率實驗參數對氧化鋅薄膜特性的影響。
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