low pressure microwave plasma 中文意思是什麼

low pressure microwave plasma 解釋
低壓微波等離子體
  • low : adj 1 低的；淺的，矮的。 low flight 低飛。 a low temperature 低溫。 low tide [water] 低潮。 The g...
  • pressure : n 1 壓；按；擠；榨。2 【物理學】壓力，壓強；大氣壓力；電壓。3 精神壓力，政治[經濟、輿論等]壓力。4...
  • plasma : n. 1. 【生理】血漿；淋巴液。2. 【生物學】原生質。3. （做藥膏用的）膏漿。4. 【礦物】半透明的綠玉髓。5. 【物理學】等離子（體）；等離子區。
  1. Microwave plasma chemical vapor deposition ( mpcvd ), a kind of chemical vapor deposition method with low temperature ， low intensity of pressure and clearance ， is commonly used for the growth of diamond thin films

    微波等離子體增強化學氣相沉積法（ mpcvd法）是眾多低氣壓下激活cvd工藝方法的一種，也是目前在國內外比較流行的制備金剛石薄膜的工藝方法之一。
  2. P. k. bachmann, chapter 3, “ microwave plasma cvd and related techniques for low pressure diamond synthesis, ” in thin film diamond, chapman & hall press, p. 31 - 53

    彭國光， 「微波電漿化學氣相沉積法之鉆石薄膜的成長與特性研究， 」國立清華大學材料科學工程系博士論文（ 2002 ）
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