射線照相分析 的英文怎麼說

中文拼音 [shèxiànzhàoxiāngfēnxī]
射線照相分析 英文
radiographic analysis
  • 射 : Ⅰ動詞1 （用推力或彈力送出） shoot; fire 2 （液體受到壓力迅速擠出） discharge in a jet 3 （放出） ...
  • 線 : 名詞1 （用絲、棉、金屬等製成的細長的東西） thread; string; wire 2 [數學] （一個點任意移動所構成的...
  • 照 : Ⅰ動詞1 （照射） illuminate; light up; shine 2 （反映） reflect; mirror 3 （拍攝） take a picture ...
  • 相 : 相Ⅰ名詞1 （相貌; 外貌） looks; appearance 2 （坐、立等的姿態） bearing; posture 3 [物理學] （相位...
  • 分 : 分Ⅰ名詞1. （成分） component 2. （職責和權利的限度） what is within one's duty or rights Ⅱ同 「份」Ⅲ動詞[書面語] （料想） judge
  • 析 : Ⅰ動詞1. （分開; 散開） divide; separate 2. （分析） analyse; dissect; resolve Ⅱ名詞（姓氏） a surname
  • 照相 : 1 （拍照） take a picture; take pictures; take photographs; take photos; photographing base; phot...
  1. The basics of lithography process, as well as the basic structure of lithographic system and the basic theory of partially coherent imaging are introduced in this paper. a bi - linear model of optical imaging is also presented. based on these theories, the simulation process of csplat is particularly analyzed, especially the computation of tccs ( transmission cross coefficient ) under different illuminations and the processing of primary lens aberrations inside tcc computation process

    本文從光刻基本過程入手，介紹了光刻機光學系統的基本組成、部分相干光透射成像的基本原理，提出了光學系統的雙線性模型，並在此基礎上詳細分析了模擬軟體splat的模擬過程，其中著重分析了光學系統的傳輸交叉系數tcc的計算，包括不同照明系統下tcc的計算以及tcc計算中像差的處理。
  2. During the experiment of protein crystal growth in space carried by chinese re - entry capsule fsw - 2, the crystals of barheaded goose hemoglobin suitable for x - ray analysis were obtained both in space and earth as contrast group. the diffraction data of both crystals were collected, and the structures were solved using molecule replacement methods. the comparison of structures in space and earth indicate that, the interactions among molecules in crystal and subunits of molecule in space is weakened relative to the crystal on earth, there is a contact in the

    在1994年我國返回式衛星fsw - 2上進行的空間蛋白質晶體生長實驗中，獲得了適合於x射線分析的空間實驗組和地面對照組的斑頭雁血紅蛋白晶體，並收集了x射線衍射數據。應用分子置換法解析了結構，並進行了比較研究。結果顯示空間晶體的分子間和分子中亞基間的相互作用趨于減弱，在
  3. In succession, tini thin film is deposited on single - crystal silicon substrate using optimized parameters utilizing sputtering, and its transformation temperature ( a * ) is 72 ? indicated by dsc curve after being annealed in an ultra - high vacuum ( uhv ) chamber. in addition, the composition of the silicon - based tini film was analyzed by an energy dispersive x - ray spectroscopy ( eds ), and the ti content in the film is approximately 51at %

    按照改進的工藝參數，在單晶硅襯底上濺射-淀積了tini薄膜，並進行了超高真空退火， dsc法測得其馬氏體逆相變峰值溫度為72 ，利用能譜分析（ eds ）技術測得其ti含量約為51at ，通過對非晶tini薄膜與單晶硅襯底之間的界面進行eds及x射線衍射（ xrd ）分析，發現在用大功率（ 2000w ）直流磁控濺射法制備tini薄膜過程中，存在ti 、 ni與si的雙向擴散，發生了界面反應，並有三元化合物ni _ 3ti _ 2si生成。
  4. Evaluation and routine testing in medical imaging departments - part 2 - 6 : constancy tests - x - ray equipment for computed tomography

    醫療圖像部門的評估和常規檢驗.第2 - 6部分:穩定性試驗.計算層析x光射線照相術用x光射線設備
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