電子束顯影法 的英文怎麼說
中文拼音 [diànzishùxiǎnyǐngfǎ]
電子束顯影法
英文
e-beam photolithography- 電 : Ⅰ名詞1 （有電荷存在和電荷變化的現象） electricity 2 （電報） telegram; cable Ⅱ動詞1 （觸電） give...
- 子 : 子Ⅰ名詞1 （兒子） son 2 （人的通稱） person 3 （古代特指有學問的男人） ancient title of respect f...
- 束 : Ⅰ動詞1 （捆; 系） bind; tie 2 （控制; 約束）control; restrain Ⅱ量詞（用於捆在一起的東西） bundle;...
- 顯 : Ⅰ形容詞1 （明顯） apparent; obvious; noticeable; evident 2 （有名聲有權勢的） illustrious and inf...
- 影 : Ⅰ名詞1 （物體擋住光線后映出的形象） shadow 2 （鏡中、水面等反映出來的物體形象） reflection; image...
- 法 : Ⅰ名詞1 （由國家制定或認可的行為規則的總稱） law 2 （方法; 方式） way; method; mode; means 3 （標...
- 電子 : [物理學] [電學] electron
- 顯影 : [攝影學] develop
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Abstract : a new method for determining proximity parameters, and in electron - beam lithography is introduced on the assumption that the point exposure spread function is composed of two gaussians. a single line is used as test pattern to determine proximity effect parameters and the normalization approach is adopted in experimental data transaction in order to eliminate the need of measuring exposure clearing dose of the resist. furthermore, the parameters acquired by this method are successfully used for proximity effect correction in electron - beam lithography on the same experimental conditions
文摘:在電子散射能量沉積為雙高斯分佈的前提下，提出了一種提取電子束光刻中電子散射參數，和的新方法.該方法使用單線條作為測試圖形.為了避免測定光刻膠的顯影閾值，在實驗數據處理中使用歸一化方法.此外，用此方法提取的電子散射參數被成功地用於相同實驗條件下的電子束臨近效應校正Part 2 analyses beam landing shifts made by thermal deformations of a shadow mask and vibration of a new type of shadow mask - aperture grille. an automatic measurement system for cpt decolorization and a vibration measurement system for aperture grille are established. part 3 analyses the difference of perception and discrimination to color between the human eyes and ccd system, and develops a new method based on ccd technology to evaluate the screen white - balance
主要內容分為三部分： （ 1 ）分析著屏電子束分佈與電子槍、偏轉系統及蔭罩之間的關系，研製自動測試裝置，為設計和改進相關結構提供依據； （ 2 ）分析蔭罩熱變形和振動對顯示屏色純度影響，建立了色純漂移自動測試裝置和張緊式蔭罩振動測試系統； （ 3 ）分析了人眼與ccd對彩色刺激的不同響應，建立了基於ccd的顯示器全屏色純均勻性測試方法。
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